RLE 系統概述

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RLE plane mirror dual axis system Renishaw RLE 雷射光學尺系統使用干涉儀,不但有干涉儀的定位量測性能,同時兼具了傳統鋼帶或玻璃光學尺易於使用的優點。

簡單的系統結構因使用光纖雷射傳輸系統得以實現,雷射光束可直接傳輸到量測軸線,無需使用多個光束彎曲鏡、分光鏡和安裝架。

此種干涉儀系統結構的轉變,使系統能夠在數分鐘內安裝,減少占地面積並降低成本。 這兩個核心部件具有各種配置,可由使用者選擇。Renishaw 還提供干涉儀,與單通檢測頭整合,還可提供雙通應用所需的鏡子和安裝架。

Laser encoder product montage Renishaw 自 1985 年以來持續活躍於雷射干涉計量領域。

因應業界對雷射回饋解決方案的需求,我們在 1994 年推出了第一個雷射光學尺產品 — HS10 長距離光學尺。世界各地的現場使用證明 H10 適用於惡劣的生產環境,是許多長軸工具機應用的理想干涉儀解決方案。

為了將應用範圍擴展到較小的機器,我們結合了干涉儀性能水準與光學尺簡便性,開發出 RLE 雷射光學尺。第一代 RLE10 於 2001 年推出,後續又推出了額外雷射光源、干涉儀配置和介面。

RLU 雷射裝置

RLU dual axis laser unit RLU 雷射裝置有單軸線或雙軸線兩種配置,包括 HeNe(氦/氖)雷射源、穩定化電子器件、光纖發射和軸線位置回饋電子器件。 RLU 雷射裝置有兩個頻率穩定性規格:RLU10 在任意一個小時期間的頻率穩定性為 ±50 ppb,可以在所有 RLE10 系統內使用;RLU20 在任意一個小時期間的頻率穩定性為 ±2 ppb,可以在所有 RLE20 系統內使用。

標準系統具有連接 RLD10 檢測頭和 RLU 雷射裝置的 3 米長的光纖帶。 RLE10 系統也可依照您的需求搭配 6 米光纖帶。

 

0 度 RLD10 發射檢測頭

RLD10 0° launch detector head 包括一個單通或雙通干涉儀(分別用於干涉儀或平面鏡應用)、一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡。

供有無內部干涉儀的 0 度發射檢測頭。 此種配置可使 RLE 系統於校正分部搭配使用線性、角度和真直度光學鏡組。

 

90 度 RLD10 發射檢測頭

RLD10 90° launch detector head 包括一個單通或雙通干涉儀(分別用於干涉儀或平面鏡應用)、一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡。 這種發射檢測頭可安裝在頂面或底面,實現 90 度或 270 度的光束發射方向。

 

RLD10 DI(差分干涉儀)檢測頭

RLD10-X3-DI differential interferometer and mirrors 包括差分(參考柱)干涉儀光學鏡組、一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡,準直輔助鏡用於對量測光束和參考光束進行俯仰和偏角調節。

註: RLD10 DI檢測頭僅適用於平面鏡應用。

RPI20 平行介面

RPI20 parallel interface 接受差分類比 1 Vpp 正弦/餘弦信號,並插入 4096,提供 36-bit 平行輸出,1 米/秒速度的解析度為 38.6 皮米。 欲知更詳細的內容和規格,請參閱附件

 

RCU10 即時方波補償系統

RCU10 compensator unit and sensors 採用環境感測器監控機器周圍環境,並提供位置回饋信號的即時補償。 欲知更詳細的內容和規格,請參閱附件

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