X-Y(平面鏡)系統

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Dual axis plane mirror application X-Y(平面)RLE 系統包括一個雙軸 RLU 雷射裝置和兩個檢測頭(可與平面鏡標靶光學鏡組配合使用)。雷射裝置的選擇很大程度上取決於操作運行環境,RLU20 特別適合在真空和可控環境下應用。RLU10 雷射裝置在 RLE10 系統內使用,RLU20 雷射裝置在 RLE20 系統內使用。

規格

資料格式 數位式 RS422 方波
類比式 1 Vpp 正弦/餘弦
解析度 數位式 — 使用者可選擇,最高可達 10 奈米(採用平面鏡標靶光學鏡組)
類比式 — 亞奈米,透過外置插補(例如,RPI20 平行介面)實現
最高速度 1米/秒(使用平面鏡標靶光學鏡組時)
雷射類型 HeNe(氦/氖),常溫常壓下波長 632.8 nm,II 級
雷射頻率穩定性 任意一小時期間 ±50 ppb (RLU10)
任意一小時期間 ±2 ppb (RLU20)
雷射壽命 > 50,000 小時
最大軸線長度 1米(使用平面鏡標靶光學鏡組時)

為了維持在變動環境條件中的精度,非真空應用需要某種形式的折射率補償。Renishaw 提供 RCU10 即時方波補償系統,可以對環境變化進行補償。

RPI20 平行介面整合到 RLE 系統中,可使解析度達到 38.6 皮米。該介面可接收差分類比 1 Vpp 正弦/餘弦訊號並提供平行輸出格式。有關 RCU10 補償系統、RPI20 以及與 RLE 系統和 HS10 長距離雷射尺配合的其他輔助設備相關資訊,請參閱附件

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