雷射編碼器介面
用於高解析度應用的彈性雷射介面。
RPI20 平行介面
RPI20 轉換來自 RLE 雷射干涉編碼器系統的 1 Vpp 類比正交訊號，以平行字串格式提供超高解析度（4096x 細分）位置回饋。
特性和優點
- 高解析度－類比正交信號最高 4096x 細分
- 多軸解決方案－以一條匯流排提供七軸能力。
- 高速通訊－輸入頻寬 <6.5 MHz 與 36 位元平行格式輸出
- 高精度－低 SDE (± 0.5 nm)
選配雙軸 VME 主機板可讓 RPI20 用於 VME 系統架構。
規格
| 解析度 | 38.6 皮米（平面鏡系統） 77.2 皮米（反射鏡系統） |
| 最高速度 | 1 m/s（平面鏡系統） 2 m/s（反射鏡系統） |
| 輸出信號 | 36 位元平行字串 |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
| 速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
| SDE* | 0.5 nm | 2 nm | 1 nm | 4 nm |
RPI20 平行介面
RPI20 轉換來自 RLE 雷射干涉編碼器系統的 1 Vpp 類比正交訊號，以平行字串格式提供超高解析度（4096x 細分）位置回饋。
特性和優點
- 高解析度－類比正交信號最高 4096x 細分
- 多軸解決方案－以一條匯流排提供七軸能力。
- 高速通訊－輸入頻寬 <6.5 MHz 與 36 位元平行格式輸出
- 高精度－低 SDE (± 0.5 nm)
選配雙軸 VME 主機板可讓 RPI20 用於 VME 系統架構。
規格
| 解析度 | 38.6 皮米（平面鏡系統） 77.2 皮米（反射鏡系統） |
| 最高速度 | 1 m/s（平面鏡系統） 2 m/s（反射鏡系統） |
| 輸出信號 | 36 位元平行字串 |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
| 速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
| SDE* | 0.5 nm | 2 nm | 1 nm | 4 nm |
RLI20-P 雷射介面－Panasonic
RLI20-P 將 Renishaw 雷射編碼器系統介接 Panasonic 控制器 (MINAS A5-SERIES)。使用來自雷射編碼器輸出的 1 Vpp 類比正交訊號，在以 RS485 格式作為增量位置讀數輸出之前，通過高速細分器。
特性和優點
- Panasonic 功能－直接相容於 Panasonic 控制器 (MINAS A5-SERIES)
- 高速通訊－高速內部位置更新率 (100 MHz)
- 高精度－低 SDE (± 0.5 nm)
規格
| 解析度 | 1nm（平面鏡系統） 2 nm（反射鏡系統） |
| 最高速度 | 1 m/s（平面鏡系統） 2 m/s（反射鏡系統） |
| 輸出信號 | 2.5 Mbps RS485，相容於 Panasonic MINAS A5 系列控制器 |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
| 速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
| SDE* | 0.5 nm | 2 nm | 1 nm | 4 nm |
RSU10 USB 介面
RSU10 USB 介面接受 RLE 系統的 1 Vpp 正弦／餘弦訊號、細分倍數 x16,384，以及透過 USB 埠提供位置讀數。
使用 RSU10 可讓量測資料相容於 Renishaw 著名的校正軟體套件（LaserXL 與 QuickViewXL）。此為需要檢視與分析即時動態量測資料的使用者，提供理想的解決方案。
各 RSU10 均隨附最大更新率達 20 Hz 的軟體開發套件 (SDK)，以便開發特定功能的軟體。
特性和優點
- 高解析度－x16,384 細分，在速度 1 m/s 時提供 9.64 皮米的訊號解析度
- 彈性的軟體 －相容於校正套件，並提供 Renishaw 軟體開發套件的彈性。
- 自動化資料擷取－TPin 觸發輸入設施可在接收外部產生的訊號後，開始進行資料擷取。
規格
| 解析度 | 9.64 皮米（平面鏡系統） 19.28 皮米（反射鏡系統） |
| 最高速度 | 1 m/s（平面鏡系統） 2 m/s（反射鏡系統） |
| 最高更新率 | 50 kHz（使用 SDK 時最大 20 Hz） |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
| 速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
| SDE* | 3 nm | 4 nm | 6 nm | 8 nm |
產品資訊
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