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RLD10 差分干涉儀

差分干涉儀可用在相對於定義參考值的量測。

差分檢測頭採用獨特的光學配置設計，以達到低 SDE 的目的。內置準直輔助鏡可在設定時進行偏擺角與前後傾角調整，改進準直流程（僅適用於平面鏡應用）。

RLD10-X3-DI 檢測頭可透過一個簡單的三定位銷固定架，安裝在製程室的外牆上。無須進入製程室即可對準檢測頭，內置雷射準直輔助鏡可對參考和量測光束的俯仰和偏擺角進行獨立調整，安裝系統設計允許拆卸檢測頭和調整檢測頭位置，對系統準直的影響極小。

特性和優點

  • 出眾的度量衡性能 - ppb 級頻率穩定性，超低周期誤差，輸出解析度可達 38.6 pm。
  • 差分配置－量測工作台與柱之間的相對位置，因此可消除常見共模誤差，例如與環境波動有關的製程室側壁移動。
  • 快速調節準直 - 採用四個內置雷射準直輔助鏡，在真空室外部進行簡單的準直調整，達到消除製程室和鏡子安裝公差。

規格

軸行程0 m - 1 m
解析度（以 RLU 配置解析度）類比正交 = λ/4 (158 nm)
數位正交 = 10 nm
RPI20 解析度 = 38.6 pm

系統非線性誤差* (SDE)

*不含介面

<±1 nm（低於 50 mm/sec，>70% 信號強度）
<±6 nm（在 1 m/sec，>50% 信號強度時）
最高速度達到 1 m/s
差分干涉儀檢測頭通常配置 Renishaw RLU20。RLU20 雷射光源的高穩定性，再結合差分干涉儀檢測頭的效能，非常適合在真空製程室與其他嚴格管制的環境內進行量測。

產品資訊

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