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RLD10 平面鏡干涉儀

適用於 XY 雙軸平台應用的平面鏡干涉儀。

RLD10 檢測頭容納干涉儀光學鏡組、一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡。提供 0° 與 90° 版本的 RLD10 檢測頭。

特性和優點

  • 雙軸解決方案-雙軸平面鏡系統為適用於 XY 雙軸平台應用的理想解決方案。
  • 高解析度-相較於反射鏡系統,平面鏡系統亦可用於需要較高解析度的應用。
  • 敏感環境-平面鏡干涉儀檢測頭亦可作為低功耗版本使用。適合需要功率消耗低於標準 RLD10 所規定 < 2 W 的應用。
配備鏡面的 RLD 檢測頭

規格 

軸行程 0 m 至 1 m
解析度(以 RLU 配置)

類比正交 = λ/4 (158 nm)
數位正交 = 10 nm
RPI20 解析度 = 38.6 pm

系統非線性誤差* (SDE)

*不含介面

<±2.5 nm(低於 50 mm/sec,>70% 訊號強度)
<±7.5 nm(在 1 m/sec,>50% 訊號強度時)
最高速度最高 1 m/sec 


非真空應用需要某種形式的折射率補償,以維持變動環境條件下的精度。Renishaw 提供 RCU10 即時方波補償系統,用於對環境變化進行補償。

將 RPI20 平行介面整合至 RLE 系統,便可達成至 38.6 皮米的解析度。此介面接受差分類比 1 Vpp 正弦/餘弦信號,並提供平行格式輸出。如需更多配件相關資訊,請參閱 RCU10 補償系統雷射編碼器介面

產品資訊