RLD10 平面鏡干涉儀
適用於 XY 雙軸平台應用的平面鏡干涉儀。
RLD10 檢測頭容納干涉儀光學鏡組、一個獨特的多通道條紋探測系統、雷射光閘和內置準直輔助鏡。提供 0° 與 90° 版本的 RLD10 檢測頭。
特性和優點
- 雙軸解決方案－雙軸平面鏡系統為適用於 XY 雙軸平台應用的理想解決方案。
- 高解析度－相較於反射鏡系統，平面鏡系統亦可用於需要較高解析度的應用。
- 敏感環境－平面鏡干涉儀檢測頭亦可作為低功耗版本使用。適合需要功率消耗低於標準 RLD10 所規定 < 2 W 的應用。
規格
| 軸行程 | 0 m 至 1 m |
| 解析度（以 RLU 配置） | 類比正交 = λ/4 (158 nm) |
系統非線性誤差* (SDE) *不含介面 | <±2.5 nm（低於 50 mm/sec，>70% 信號強度） <±7.5 nm（在 1 m/sec，>50% 信號強度時） |
| 最高速度 | 最高 1 m/sec |
非真空應用需要某種形式的折射率補償，以維持變動環境條件下的精度。Renishaw 提供 RCU10 即時方波補償系統，用於對環境變化進行補償。
將 RPI20 平行介面整合至 RLE 系統，便可達成至 38.6 皮米的解析度。此介面接受差分類比 1 Vpp 正弦／餘弦信號，並提供平行格式輸出。如需更多配件相關資訊，請參閱 RCU10 補償系統及雷射編碼器介面。
產品資訊
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