線性（反向反射鏡）系統

RLE 線性系統包括一個 RLU 雷射裝置以及與反向反射鏡標靶光學鏡組配用的（通常為）RLD10 檢測頭。 雷射裝置的選擇很大程度上取決於操作環境，RLU20 特別適合在真空和可控環境下應用。 RLU10 雷射裝置在 RLE10 系統內使用，RLU20 雷射裝置在 RLE20 系統內使用。

提供適合 0 度或 90 度光束輸出方向的檢測頭。

線性量測系統還可使用平面鏡標靶光學鏡組的檢測頭，不但增加了輸出解析度，並且縮短軸線長度至 1 米。

規格

對於非真空應用，為了維持變動環境條件下的精度，需要某種形式的折射率補償。 Renishaw 提供 RCU10 即時方波補償系統，用於對環境變化進行補償。

透過將 RPI20 平行介面整合到 RLE 系統（平面鏡配置）中，可使解析度達到 38.6 皮米。 若採用數字輸出來提高解析度，Renishaw 內插器 REE 系列可提供高達 395 奈米的解析度（平面鏡配置）。 該介面可接收差分類比 1 Vpp 正弦/餘弦信號並提供平行格式輸出。 有關 RCU10 補償系統、RPI20、REE  以及與 RLE 系統配合使用的其他輔助設備之相關資訊，請參閱附件。

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